HUONAni200/Ni201Microalambre de níquel puro de resistencia uniforme para dispositivos electrónicos de vacío.
Posee buena resistencia mecánica, resistencia a la corrosión y resistencia al calor.
Es apto para radio, fuentes de luz eléctrica, fabricación de maquinaria, industria química y es un material estructural importante en dispositivos electrónicos de vacío.
Se utiliza ampliamente en aparatos eléctricos, maquinaria química, equipos de procesamiento de materiales, baterías recargables, ordenadores, teléfonos móviles, herramientas eléctricas, videocámaras, etc.
Composición química
| Calificación | Composición elemental/% | |||||||
| Ni+Co | Mn | Cu | Fe | C | Si | Cr | S | |
| Ni201 | ≥99,0 | ≤0,35 | ≤0,25 | ≤0,30 | ≤0,02 | ≤0,3 | ≤0,2 | ≤0,01 |
| ni200 | ≥99,0 | /≤0,35 | ≤0,25 | ≤0,30 | ≤0,15 | ≤0,3 | ≤0,2 | ≤0,01 |
Propiedad
| Densidad | Punto de fusión | Coeficiente de expansión | Módulo de rigidez | Módulo de elasticidad | resistividad eléctrica | |
| ni200 | 8,9 g/cm³ | 1446°C | 13,3 µm/m °C (20-100 °C) | 81 kN/mm² | 204 kN/mm² | 9,6 μW• cm |
| Ni201 | 1446°C | 13,1 µm/m °C (20-100 °C) | 82 kN/mm² | 207 kN/mm² | 8,5 μW• cm |
| Diámetro (mm) | Tolerancia (mm) | Diámetro (mm) | Tolerancia (mm) |
| 0,03-0,05 | ±0,005 | >0,50-1,00 | ±0,02 |
| >0,05-0,10 | ±0,006 | >1.00-3.00 | ±0,03 |
| >0,10-0,20 | ±0,008 | >3.00-6.00 | ±0,04 |
| >0,20-0,30 | ±0,010 | >6.00-8.00 | ±0,05 |
| >0,30-0,50 | ±0,015 | >8.00-12.0 | ±0,4 |
Especificación del tipo de tira estirada en frío
| Espesor (mm) | Tolerancia (mm) | Ancho (mm) | Tolerancia (mm) |
| 0,05-0,10 | ±0,010 | 5.00-10.0 | ±0,2 |
| >0,10-0,20 | ±0,015 | >10,0-20,0 | ±0,2 |
| >0,20-0,50 | ±0,020 | >20,0-30,0 | ±0,2 |
| >0,50-1,00 | ±0,030 | >30,0-50,0 | ±0,3 |
| >1,00-1,80 | ±0,040 | >50,0-90,0 | ±0,3 |
| >1,80-2,50 | ±0,050 | >90,0-120,0 | ±0,5 |
| >2.50-3.50 | ±0,060 | >120,0-250,0 | ±0,6 |
150 0000 2421